LiF Substrate
Descriptio
LiF2 crystallum opticum optimum IR ad fenestras et lentis perficiendum habet.
Properties
| Density（g/cm3. | 2.64 |
| Liquefactio Point（℃） | 845 |
| Scelerisque conductivity | 11.3 Wm-1K-1 at 314K |
| Scelerisque Expansion | 37 x 10-6 /℃ |
| Duritia (Mho) | 113 cum 600g indenter (kg/mm2) |
| Imprimis Caloris Capacitas | 1562 J/(kg.k) |
| Dielectric Constant | 9.0 ad 100 Hz |
| Young Modulus (E) | 64.79 GPa |
| Shear Modulus (G) | 55.14 GPa |
| Bulk Modulus (K) | 62.03 GPa |
| Ruptura Modulus | 10.8 MPa |
| Coefficiens elastica | C11=112;C12=45.6;C44=63.2 |
LiF Substratum Definition
LiF (lithium fluoride) substratum referuntur ad materiae usum fundamentum vel subsidium pro variis processibus tenuibus cinematographicis in campis opticorum, photonicis et microelectronicis.LiF est pellucens et crystallum valde insulans cum fascia lato.
LiF subiectae applicationes cinematographicae in tenuibus usitatae sunt propter excellentem diaphaneitatem in regione ultraviolaceo et magno resistentia calori et reactionibus chemicis.Aptissima sunt praecipue applicationibus sicut tunicarum opticorum, depositio pellicularum tenuis, spectroscopia et microscopia electronica.
LiF subiectae plerumque substratae materiae eliguntur quia in UV vagae absorbancem habent et optice planae sunt ad mensuras accuratas et accuratas seu observationes.Praeterea, LiF bonam stabilitatem in calidis temperaturis exhibet et multiplices technicas depositiones sustinere potest sicut evaporatio thermarum, putris, et trabs hypothetica epitaxy.
Proprietates LiF subiectorum eas aptissimas in applicationibus in UV opticis, lithographia et X-radii crystallographiae aptos reddunt.Eorum magna resistentia ad factores environmental et stabilitatem chemicam eas materias versatiles pro variis investigationibus et applicationibus industrialibus efficit.
Related Products
LiF (lithium fluoride) late notum est propter excellentes proprietates infraredas (IR) tamquam materiam opticam pro fenestris et lentibus.Hic sunt cardines quaedam de crystallis opticis LiF2;
1. Transparentia infrared: LiF2 perspicuitatem exhibet praeclaram in regione infrarubra, praesertim in medio infrared et in aequalitate longe infrarata.Illuminare potest in fluctuatione circiter 0.15 µm ad 7 µm, apta variis applicationibus ultrarubrum faciens.
2. Effusio humilis: LiF2 effusio humilis in spectro infrarubro, permittens minimam attenuationem luminis infrarubi per materiam.Haec transmissio altam efficit ac ita transmissio radiorum ultrarubrum efficientem.
3. Princeps refractivus index: LiF2 altus index refractivus in iugi necem ultrarubrum.Proprietas haec permittit potestatem efficientem et manipulationem lucis infraredae, eamque pretiosam facit ad lens consilia quae opus est ut focus et flectat radiorum ultrarubrum.
4. Lata bandgap: LiF2 amplam fasciam habet circiter 12.6 eV, quod significat industriam altam initus requirit ut transitus electronicos incipiat.Proprietas haec ad suam altitudinem perspicuitatis et humilem effusio in regione ultraviolaceo et ultrarubro confert.
5. Stabilitas scelerisque: LiF2 stabilitatem bonam habet scelerisque, quae sinit sustinere temperaturas altas sine notabili degradatione perficiendi.Inde idoneos facit applicationes ad altas temperaturas expositae, sicut systemata imaginatio thermarum vel sensoriis ultrarubrum.
6. Resistentia chemica: LiF2 multis chemicis resistit, inclusa acida et alcali.Facile in praesentia earum substantiarum non reagit aut degradat, dum diuturnitatem et firmitatem opticenum ex LiF2 factum.
7. birefringentia humilis: LiF2 birefringentiam humilis habet, quae significat lucem non in varias polarizationes civitates scindendas.Haec proprietas magni momenti est in applicationibus quae independentiam polarizationem exigunt, ut in interferometria vel aliis systematibus opticis praecisionem.
Super, LiF2 valde aestimatur ob eximiam eius observantiam in spectro infrarubro, eamque pretiosam materiam pro fenestris et lentis facit in variis applicationibus infrarubeis.Coniunctio altae pellucentiae, effusio humilis, fascia lata, stabilitas thermarum, resistentia chemicae, et birefringentia humilis ad suam eximiam infrarubrum observantiam confert.
